Как получить аморфный кремний?

Для получения аморфного кремния, используемого в солнечных элементах и тонкопленочных транзисторах, применяется способ твердофазного взаимодействия гексафторосиликата аммония и кремнеземсодержащего материала. Образовавшийся возгон подвергается последующему выделению диоксида кремния. Основным материалом для получения аморфного кремния является диатомит, который подвергается измельчению и обжигу перед переработкой в кавитирующей среде.

Аморфный кремний осаждается в тонких пленках на гибкие подложки, такие как стекло, металл и пластик. Он обладает низкой эффективностью, но является экологически чистой фотоэлектрической технологией, не содержащей токсичных металлов.

Хотя аморфный кремний ранее ожидалось, что станет основным источником фотоэлектрического рынка, он потерял свою значимость из-за конкуренции с другими кремниевыми элементами и технологиями.

Для получения аморфного кремния применяется следующий способ:

• Измельчение диатомита до получения фракции с заданной тониной помола.
• Обжиг измельченного диатомита при определенной температуре.
• Приготовление шихты с использованием исходного кремнийсодержащего сырья и диатомита в определенном соотношении.
• Переработка шихты в кавитирующей среде под контролем pH среды.
• Выделение образовавшегося диоксида кремния фильтрацией, промывкой водой и сушкой.

Этот метод позволяет получить аморфный кремний из диатомита, который является естественной горной породой с высоким содержанием аморфного кремнезема.